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            鍍膜靶材:國內發展迎頭趕上

              鍍膜靶材:國內發展迎頭趕上

              鍍膜靶材是通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統,在適當工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。集成電路、平板顯示是用靶材主要應用領域,其濺射產品主要包括電極互連線膜、電容器電極膜、接觸薄膜、光盤掩膜、阻擋層薄膜、電阻薄膜等。國際上高端濺射靶材的主要生產商有JX/Nikko、Praxair/MRC、Honeywell Electronic Materials、Tosoh SMD等。


              平板顯示用高純金屬靶材市場主要被奧地利攀時股份有限公司(Plansee)、德國世泰科(H.C. Starck)和日本日立金屬株式會社(Hitach metal)、住友化學集團(Sumitomo)所壟斷,其中奧地利攀時和德國世泰科是全球大的鉬靶供應商。ITO高端靶材被日本礦業有限公司、日本三井金屬礦業有限公司、日本東曹化工有限公司、韓國三星等少數公司所壟斷。日本礦業和三井礦業幾乎占據高端TFT-LCD市場用ITO靶材的全部份額和大部分的觸摸屏面板市場,每家年供應量達到600t以上。

              我國是世界上薄膜濺射靶材的大需求地區,國內靶材材料發展速度較快。

              國內企業氧化銦錫(ITO)靶材技術自主研發進展緩慢,受技術限制主要供應低端市場;而高端TFT-LCD、觸摸屏用ITO靶材幾乎全部從日本和韓國進口。近年來國內企業加快了ITO靶材的技術研發和引進,在建有多個高端ITO靶材國產化項目

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